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| 荷蘭SPARKNANO空間原子層沉積系統S-ALD系統產品特點與用途 |
| 點擊次數：527 更新時間：2025-06-12 |
荷蘭SPARKNANO空間原子層沉積系統S-ALD系統產品介紹
一、 品牌與產品概述 荷蘭SPARKNANO公司 (SparkNano B.V.)，一家專注于原子層沉積(ALD)技術的設備制造商。 核心產品：空間原子層沉積(S-ALD)系統。該技術區別于傳統時序ALD，采用空間分隔反應氣體和連續基板運動的方式實現薄膜沉積。產品定位：提供從研發、中試到大規模工業生產的S-ALD設備解決方案，滿足不同基材和產量的需求。
二、 產品型號與技術參數 SPARKNANO提供以下三個主要產品系列，對應不同應用場景： 1、LabLine系列 ? 定位：研發、工藝開發、原型制作及中試生產。 ? 簡介：靈活的系統，用于探索S-ALD工藝在各種材料上的應用。 ? 工作原理：基板在反應腔內連續移動，依次通過物理隔離的不同前驅體和反應氣體區域，實現薄膜的逐原子層生長。過程無需反復抽真空，沉積連續。 技術參數： ? 適用基材：晶圓、玻璃、金屬箔、聚合物箔、多孔材料。 ? 最大樣品區：420 mm x 300 mm。 ? 前驅體通道：標準4路（可擴展）。 ? 反應選項：H?O（標準），等離子體（O?, O?, H? 可選）。 ? 溫度范圍：熱S-ALD 50–250°C；等離子體S-ALD 50–200°C。 ? 裝載方式：手動（雙前室）。 2、Vellum系列 ? 定位：大面積剛性或柔性平面基材（如晶圓、玻璃、金屬箔）的片對片(Sheet-to-Sheet)量產。 ? 簡介：高產能系統，設計用于自動化大批量生產。 技術參數： ? 基板尺寸：0.5m x 0.5m 至 1.5m。 ? 處理速度：可達20片/分鐘（視基板與工藝而定）。 ? 溫度范圍：熱S-ALD 50–250°C；等離子體S-ALD 50–200°C。 3、Omega系列 ? 定位：柔性聚合物箔或金屬箔的卷對卷(Roll-to-Roll)超高產量量產。 ? 簡介：專為連續處理柔性長幅材料設計，追求高線速度。 技術參數： ? 適用基材：聚合物箔、金屬箔。 ? 幅寬：300mm – 2000mm (可定制)。 ? 線速度：可達60米/分鐘（視工藝而定）。 ? 工藝兼容：熱S-ALD和等離子體S-ALD。
三、 核心特點 SPARKNANO S-ALD系統的特點包括： ? 沉積速度提升：空間連續沉積方式，相比傳統時序ALD，完成相同厚度薄膜所需時間通常縮短（例如LabLine沉積50nm Al?O?約10分鐘）。 ? 基材適應性寬：系統設計可處理多種形態的材料，涵蓋剛性基底（硅片、玻璃）、柔性箔材（聚合物、金屬）以及具有孔隙的材料。 ? 工藝靈活可選：支持熱模式及等離子體增強模式（PE-ALD），可使用多種前驅體和反應氣體（如H?O, O?, O?, H?等離子體），擴展了可沉積材料范圍。 ? 研發到生產路徑清晰：LabLine的工藝開發成果可直接遷移至Vellum（片對片量產）或Omega（卷對卷量產）系統，支持技術產業化。 ? 模塊化理念：設備設計考慮模塊化，便于根據特定應用需求進行配置調整或后續功能升級。
四、 應用領域 SPARKNANO S-ALD系統適用于多個技術領域，具體應用如： ? 能源存儲：用于鋰離子電池電極材料涂層、固態電池電解質/電極界面層、電池隔膜涂層，提升電池性能和壽命。 ? 光伏太陽能：用于晶硅太陽能電池表面鈍化層、薄膜太陽能電池的功能層（緩沖層、窗口層等）沉積。 ? 平板顯示：用于OLED顯示器的薄膜封裝層(TFE)，阻隔水氧，延長器件壽命。 ? 新興能源技術：用于電解水制氫（綠氫）設備中的催化劑涂層、膜電極制備。 ? 半導體相關：用于先進封裝中的介質層沉積、MEMS器件功能薄膜沉積。 |
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